Wissenschaftlicher Mitarbeiter Entwicklung Oberflächenmesstechnik (m/w/x)

ZEISS

Jobbeschreibung
Sich etwas Neues trauen, über sich hinauswachsen und dabei die Grenzen des Machbaren neu definieren. Genau das ist es, was unsere Mitarbeitenden täglich leben dürfen und sollen. Um mit unseren Innovationen das Tempo vorzugeben und Großartiges zu ermöglichen. Denn hinter jedem erfolgreichen Unternehmen stehen eine ganze Menge faszinierender Menschen.
Die Mitarbeitenden von ZEISS arbeiten in einem offenen und modernen Umfeld mit zahlreichen Entwicklungs- und Weiterbildungsmöglichkeiten. Unsere Kultur ist geprägt von Expertenwissen und Teamgeist. All das wird getragen durch die besondere Eigentümerstruktur und das langfristige Ziel der Carl-Zeiss-Stiftung: Wissenschaft und Gesellschaft gemeinsam voranzubringen.

Heute wagen. Morgen begeistern.

Vielfalt ist ein Teil von ZEISS. Wir freuen uns unabhängig von Geschlecht, Nationalität, ethnischer und sozialer Herkunft, Religion, Weltanschauung, Behinderung, Alter sowie sexueller Orientierung und Identität auf Ihre Bewerbung.

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Sie möchten den Motor der Digitalisierung in einem interdisziplinären Umfeld mitgestalten? Sie haben Erfahrung in der Entwicklung und Modellierung komplexer Systeme, haben Begeisterung für Technik und Talent im Umgang mit Menschen? In der Gruppe Commissioning & Performance Assurance EUV High NA der ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology gestalten wir gemeinsam die Zukunft der Halbleiterlithografie mit Messprozessen und Konzepten für die hochgenaue Bestimmung der Oberflächenform unserer EUV-Optiken. Unsere Aufgabe ist es, Konzepte und fertigungstaugliche Messprozesse zu entwickeln, beginnend mit ersten Ideen und der Technologieentwicklung bis hin zur Performanceabsicherung im Fertigungsbetrieb. Wir stehen für hohe Fachexpertise, hohe Selbstverantwortung, ein unglaublich motivierendes Umfeld und eine Kultur des gemeinsamen Wachsens.

  • Sie entwickeln und optimieren optische Messysteme mit höchsten Genauigkeitsanforderungen für die Qualifizierung von Lithografieoptiken

  • Sie erarbeiten und bewerten Konzepte und Verfahren zur höchstgenauen optischen Oberflächenmessung, sie analysieren bestehende Verfahren und optimieren Durchsatz und Performance

  • Sie konzipieren und verbessern Messabläufe und Kalibrierverfahren für komplexe Messsysteme

  • Sie entwickeln Algorithmen für verbesserte Auswerte-, Kalibrier- und Korrekturverfahren für interferometrische Messverfahren mit extremen Genauigkeitsanforderungen und führen sie in die Fertigung ein

  • Sie untersuchen die Performance der betreuten Messtechniken mit experimentellen und theoretischen Verfahren, erarbeiten Verbesserungsmaßnahmen und koordinieren deren Umsetzung.

  • Sie leiten Projekte in diesem Aufgabengebiet


  • ein sehr gut abgeschlossenes wissenschaftliches oder technisches Studium (Physik, Maschinenbau, technische Optik), vorzugsweise mit Promotion

  • gute Kenntnisse in technischer Optik oder optischer Messtechnik sind vorteilhaft

  • Erfahrung in der datenbasierten Analyse komplexer Systeme

  • ein hohes Maß an Teamfähigkeit, Eigenmotivation und Engagement

  • gute Programmierkenntnisse, vorzugsweise in MATLAB oder Python

  • Erfahrungen im Projektmanagement wünschenswert

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