Jobbeschreibung

Sich etwas Neues trauen, über sich hinauswachsen und dabei die Grenzen des Machbaren neu definieren. Genau das ist es, was unsere Mitarbeitenden täglich leben dürfen und sollen. Um mit unseren Innovationen das Tempo vorzugeben und Großartiges zu ermöglichen. Denn hinter jedem erfolgreichen Unternehmen stehen eine ganze Menge faszinierender Menschen.

Die Mitarbeitenden von ZEISS arbeiten in einem offenen und modernen Umfeld mit zahlreichen Entwicklungs- und Weiterbildungsmöglichkeiten. Unsere Kultur ist geprägt von Expertenwissen und Teamgeist. All das wird getragen durch die besondere Eigentümerstruktur und das langfristige Ziel der Carl-Zeiss-Stiftung: Wissenschaft und Gesellschaft gemeinsam voranzubringen.

Heute wagen. Morgen begeistern.

Vielfalt ist ein Teil von ZEISS. Wir freuen uns unabhängig von Geschlecht, Nationalität, ethnischer und sozialer Herkunft, Religion, Weltanschauung, Behinderung, Alter sowie sexueller Orientierung und Identität auf Ihre Bewerbung.

Jetzt bewerben! In weniger als 10 Minuten.

Enabler für kleinere, leistungsfähigere und energieeffizientere Mikrochips.

Arbeiten, wo das Morgen entsteht.

Was darf bei keinem Smartphone fehlen?

Genau, der Mikrochip – das Herzstück eines jeden elektronisch gesteuerten Systems. Rund 80 Prozent aller Mikrochips weltweit werden mit ZEISS Technologien gefertigt. ZEISS ist Technologieführer im Bereich Halbleiterfertigungs-Equipment. Mit hochpräzisen Lithographie-Optiken, Photomasken-Systemen und Lösungen für die Prozesskontrolle ermöglicht ZEISS die Herstellung von immer kleineren, leistungsfähigeren und energieeffizienteren Mikrochips – und prägt so mit seinen Innovationen das Zeitalter der Mikro- und Nanoelektronik entscheidend mit.

Ihre Rolle

In der Gruppe Systems Metrology Projection Optics EUV als Teil der Entwicklungsabteilung Metrology Optics & Interferometry der ZEISS Sparte Semiconductor Manufacturing Technology formen wir gemeinsam die Zukunft der Halbleiterlithografie mit dem Design und der Entwicklung von Interferometersystemen, Sensoren und Lichtquellen, als Kerntechnologie unserer eigenentwickelten Messmittel der Oberflächenformmesstechnik. Wir stehen für hohe Fachexpertise, hohe Selbstverantwortung, ein unglaublich motivierendes Umfeld und eine Kultur des gemeinsamen Wachsens.

• Sie leiten die neu geformte Gruppe Interferometry EUV mit ca. 8 Mitarbeitenden fachlich und disziplinarisch

• dabei stellen Sie in enger Zusammenarbeit mit allen Stakeholdern exzellente Ergebnisse in Ihrer Gruppe sicher

• Sie sorgen dafür, dass benötigte Kompetenzen, Kapazitäten und Technologien in ihrer Gruppe geplant, entwickelt und vorgehalten werden und unterstützen damit das strategische Wachstum der SMT

• darüber hinaus pflegen Sie Beziehungen zu externen Entwicklungspartnern und kümmern sich um die Erweiterung des vorhandene Partnernetzwerks

• nicht zuletzt verantworten Sie Prozesse, Arbeitsweisen und Arbeitssicherheit in Ihrem Team

• Sie können einen sehr guten technischen oder naturwissenschaftlichen Hochschulabschluss vorweisen, gerne auch mit Promotion

• Sie besitzen mindestens 3 Jahre Berufserfahrung in einem komplexen technischen Umfeld – idealerweise bereits im Bereich von Konzeptionierung, Design und Entwicklung höchstgenauer optischer Messsysteme

• Sie haben Erfahrung in der disziplinarischen oder fachlichen Führung von Mitarbeitenden und Teams

• Sie bringen sehr hohe Eigeninitiative, Verantwortungsbereitschaft und die Fähigkeit mit, Veränderungen erfolgreich umzusetzen sowie sich in neue komplexe Themenfelder einzuarbeiten

• Sie zeichnen sich durch eine ausgeprägte Kundenorientierung verbunden mit unternehmerischem Denken und Handeln aus

• Sie kommunizieren verhandlungssicher auf Deutsch und Englisch in Wort und Schrift

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