Job Description
Sich etwas Neues trauen, über sich hinauswachsen und dabei die Grenzen des Machbaren neu definieren. Genau das ist es, was unsere Mitarbeitenden täglich leben dürfen und sollen. Um mit unseren Innovationen das Tempo vorzugeben und Großartiges zu ermöglichen. Denn hinter jedem erfolgreichen Unternehmen stehen eine ganze Menge faszinierender Menschen.Die Mitarbeitenden von ZEISS arbeiten in einem offenen und modernen Umfeld mit zahlreichen Entwicklungs- und Weiterbildungsmöglichkeiten. Unsere Kultur ist geprägt von Expertenwissen und Teamgeist. All das wird getragen durch die besondere Eigentümerstruktur und das langfristige Ziel der Carl-Zeiss-Stiftung: Wissenschaft und Gesellschaft gemeinsam voranzubringen.
Heute wagen. Morgen begeistern.
Vielfalt ist ein Teil von ZEISS. Wir freuen uns unabhängig von Geschlecht, Nationalität, ethnischer und sozialer Herkunft, Religion, Weltanschauung, Behinderung, Alter sowie sexueller Orientierung und Identität auf Ihre Bewerbung.
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Übernahme der Governance für alle Entwicklungsprojekte und Technologiestudien in der Abteilung / Funktion Imaging EUV Metrology. Dies bedeutet im Einzelnen:
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disziplinarische, fachliche und methodische Führung des R&D-Funktionsteam Imaging EUV Metrology inklusive Untergruppen sowie aktives Schnittstellenmanagement zu angrenzenden Bereichen
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interne Qualifizierungsmaßnahmen festlegen und die zugeordneten Mitarbeitenden entsprechend ihrer Qualifikation und Eignung optimal einsetzen sowie externe Kooperationen nutzen und weiter ausbauen
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mit Ihrem Funktionsteam komplexe Messsysteme und Module für die Prüfung und Bewertung von Photomasken für die Halbleiterindustrie mit dem Schwerpunkt - Beleuchtungs- und Abbildungsoptik, EUV Lichtquellen und EUV Kameras - termin- und kostengerecht entwickeln, in die Serienfertigung überführen und durch eine geeignete Patentstrategie absichern
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die funktionale Roadmap inkl. dafür erforderlicher Studien zusammen mit Ihrem Team aktiv gestalten und vorantreiben
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Nutzung und Ausbau von lokalen und globalen Modulen innerhalb EUV Metrology sowie Sicherstellung der global vorgegebenen Produktarchitekturen in Hard- und Software
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Sicherstellung der Prozesskonformität inkl. Dokumentation für alle Entwicklungstätigkeiten (Produktentwicklungsprozess, Komponentenrichtlinie, Objektmeilensteinrichtlinie, Änderungsprozess sowie Software-Entwicklungsprozesse)
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regelmäßige Prüfung von KPIs (Key Performance Indicators) und darauf basierte Entwicklung von Verbesserungsmaßnahmen
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bedarfsgerechte Kosten- und Ressourcenplanung erstellen inkl. Controlling der entsprechenden Kennzahlen
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Ihre Mitarbeitenden entsprechend der ZEISS Führungsgrundsätze führen, motivieren, beurteilen, steuern und entwickeln
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Koordination und Ansprechpartner für den Betriebsrat an den Standorten Jena und Oberkochen für Mitarbeitende im eigenen Verantwortungsbereich
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sehr gut abgeschlossenes Studium im naturwissenschaftlichen oder ingenieurtechnischen Bereich mit Schwerpunkt Physik, technische Optik, Bildverarbeitung oder optische Simulationen (Promotion von Vorteil)
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3-5 Jahre Berufserfahrung in der Entwicklung und Führung hochkomplexer industrieller Entwicklungsprojekte in der Halbleiterindustrie
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mindestens 3 Jahre Führungserfahrung eines größeren Teams (> 8 Mitarbeitende) sowie Erfahrung im Führen von Führungskräften
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ausgeprägte Kenntnisse im Projektmanagement (agil, klassisch, Task Force) und strategischer Weitblick, idealerweise mit zertifizierten Kenntnissen in Agile Entwicklung (SCRUM, Kanban)
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Erfahrung in prozessgesteuerten Unternehmen und KPI-Management-Systemen sowie technischen Lieferantenmanagement
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sehr gute Kommunikationsfähigkeiten, hohes Durchsetzungsvermögen, innovative und strukturierte Arbeitsweise sowie die Fähigkeit komplexe Sachverhalte klar und strukturiert aufzubereiten und zu präsentieren
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Organisationstalent, Empathie, Gestaltungswille und Erfahrung in der Konfliktbewältigung
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Teamfähigkeit sowie Spaß am Arbeiten in und mit global agierenden Teams
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verhandlungssichere Englischkenntnisse in Wort und Schrift